多项选择题 一般来说，溅射镀膜的过程包括（）这几步。

单项选择题 （）是指每个入射离子溅射出的靶原子数。

单项选择题 （）方法是大规模集成电路生产中用来沉积不同金属的应用最为广泛的技术。