单项选择题
()是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技术。
A.LPCVD B.PECVD C.CVD D.PVD
单项选择题 物理气相沉积简称()。
多项选择题 薄膜沉积的机构包括那些步骤()。
多项选择题 晶片表面上的粒子是通过()到达晶片的表面。