填空题
技术系统的物—场模型中,化学场包括()、()和酸碱介质。
氧化;还原
填空题 经过()份全世界高水平发明专利的研究TRIZ将高难度的问题和所要实现的功能进行了归纳总结。
填空题 技术发明具有创造活动的两大基本特征是()。
填空题 冲突的元素包括()和()。