多项选择题
在半导体工艺中,淀积的薄膜层应满足的参数包含有()。
A.均匀性 B.表面平整度 C.自由应力 D.纯净度 E.电容
单项选择题 为了防止抽气设备对离子注入系统的油污染,可在靶室前增加一个()或采用无油泵。
单项选择题 离子源的基本结构是由产生高密度等离子体的()和引出部分组成。
单项选择题 在磁分析器中常用()分析磁铁。