问答题
为什么晶体管栅结构的形成是非常关键的工艺？更小的栅长会引发什么问题？
因为它包括了最薄的栅氧化层的热生长以及多晶硅栅的刻印和刻蚀，而后者是整个集成电路工艺中物理尺度最小的结构。多晶硅栅的宽度......
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问答题 为什么要采用LDD工艺？它是如何减小沟道漏电流的？
问答题 光刻和刻蚀的目的是什么？
问答题 离子注入后为什么要进行退火？
