问答题
集成电路制造中有哪几种常见的扩散工艺?各有什么优缺点?
扩散工艺分类:按原始杂质源在室温下的相态分类,可分为固态源扩散,液态源扩散和气态源扩散。固态源扩散(1).开管扩散......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
问答题 分别简述RVD和GILD的原理,它们的优缺点及应用方向。