单项选择题
硅片表面污染的杂质，原子型杂质可分为（）
A.K+，Na+，Ca2+，F-，CL-，CO32- B.油脂、腊、松香 C.金、铂、铜、铁
单项选择题 硅片表面污染的杂质，离子型杂质可分为（）
单项选择题 硅片表面污染的杂质，分子型杂质可分为（）
判断题 POCl3扩散是一种用气体携带液态扩散源的扩散方式。
