问答题
对净化间做一般性描述。
净化间是硅片制造设备与外部环境隔离，免受诸如颗粒、金属、有机分子和静电释放（ESD）的玷污。一般来讲，那意味着这些玷污在......
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问答题 例举出硅片厂中使用的五种通用气体。
问答题 描述在硅片厂中使用的去离子水的概念。
问答题 砷化镓相对于硅的优点是什么？
