单项选择题 在制作半精密附着体的修复体时，为利于安放附着体的阴性部件，在完成选择合适的半精密体后，在蜡冠上应制备的洞型为（）

单项选择题 常用于上前牙，具有卡环暴露少，义齿就位顺利优点的卡环是（）

单项选择题 瓷全冠修复， 要求在各种颌位时都具有足够的修复空间的目的是（）