未知题型
在氮化硅薄膜制备中，底层薄膜的功率需要加大（）
B．错误在氮化硅薄膜制备过程中，底层薄膜的功率并不是随意加大就可以改善薄膜质量的。薄膜沉积过程中的功率设置需要根据具体的......
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单项选择题 擦罐的手法是（）
单项选择题 HESR体验店点检过程中，若任意一款机型没有进入状态长达5秒的，此项扣（）
单项选择题 摩罐的手法是（）
