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全部科目 > 通信电子计算机技能考试 > 集成电路制造工艺员 > 集成电路制造工艺员(三级)

多项选择题

对于非晶靶,离子注入的射程分布取决于()。

    A.入射离子的能量
    B.入射离子的质量
    C.入射离子的原子序数
    D.靶原子的质量、原子序数、原子密度
    E.注入离子的总剂量

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