问答题
简答题
离子注入工艺和扩散工艺相比的优点
【参考答案】
温度低，使用PR遮蔽层（扩散硬遮蔽层），非等向性掺杂轮廓，可独立控制掺杂浓度和结深，批量及单晶圆工艺（扩散为单晶圆工艺）
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