问答题
论述题
简述在热氧化过程中杂质再分布的四种可能情况。
【参考答案】
如果假设硅中的杂质分布是均匀的，而且氧化气氛中又不含有任何杂质，则再分布有四种可能。①分凝系数m＜l，且在SiO
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