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直拉单晶硅工艺学
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填空题
西门子法中通常用()还原(),生成多晶硅沉积在()上。
【参考答案】
高纯氢;高纯三氯氢硅;硅芯
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填空题
西门子法的工艺的制备温度需要在()℃左右。
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