单项选择题
下列有关离子注入机基本单元定义说法错误的是（）。
A.I/S是元素电离后形成离子，施加高电压引出加速的场所
B.B/L是施加电压加速，并对束流整形，约束并扫描的场所
C.E/S是基板设定，离子注入的场所
D.Load/Unload是基板传送进出的场所
点击查看答案&解析
相关考题
-
单项选择题
避免坩埚影响而使用的MCZ法在多少寸硅基板上是主流？（）
A.4寸
B.6寸
C.8寸
D.12寸 -
单项选择题
硅添加磷后会形成什么型硅？（）
A.P型硅
B.N型硅
C.PNP型硅
D.NPN型硅 -
单项选择题
由螺旋状的静涡旋和动涡盘组成，通过偏心运动涡旋来输送气体并排气，是指哪种类型的干泵？（）
A.隔膜型
B.回转翼型
C.活塞型
D.涡旋型
