单项选择题
采用狭缝扫描曝光的复印机，成像系统平面反光镜的数量为（）。
A.应为偶数，只有两次反光镜成像，第一次被倒置的像才能正过来。
B.应为奇数，因为光路上成像过程中镜头处发生过一次像倒置，再用奇数的反光镜，保证最后成像是正的。
C.可以是奇数，也可以是偶数，由光路决定。
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单项选择题
充电电极上电晕丝与屏蔽罩上距离为（）。
A.电晕丝与屏蔽罩的距离应大于电晕丝与光导体的距离，使充电电流主要流向光导体。
B.电晕丝与屏蔽罩的距离应小于电晕丝与光导体的距离，使充电电流稳定。
C.电晕丝与屏蔽罩的距离应等于电晕丝与光导体的距离，使放电均匀。 -
单项选择题
三硒化二砷光导体的缺点是（）。
A.温度在30~40℃范围内表面电位会迅速下降，应根据不同温度提高充电电流
B.在低温状态下感光度较低，要使用鼓加热器使鼓表面温度恒定在35℃ -
单项选择题
残余电位是评价光导体性能的重要指标，要求是（）。
A.接近于零
B.不超过其表面起始电位的10%
C.不超过其表面起始电位的20%
