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单项选择题
光刻加工的工艺过程为：（）
A.①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗
B.①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散
C.①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原 -
单项选择题
在进行纳米级测量非导体的零件表面形貌时，常采用的测量仪器为（）。
A.光学显微镜
B.扫描隧道显微镜
C.原子力显微镜 -
单项选择题
FMS非常适合（）。
A.大批大量生产方式
B.品种单一、中等批量生产方式
C.多品种、变批量生产方式
