相关考题
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单项选择题
真空镀膜时真空度范围应在（）。
A、低真空
B、中真空
C、高真空
D、超高真空 -
多项选择题
对镀膜材料进行预熔的目的是（）。
A、去除材料内部的杂质
B、改变材料的表面形状
C、减少材料的放气
D、提高材料的温度 -
单项选择题
为使蒸发材料分子从蒸发源到达基板时基本不和残余气体分子发生碰撞，故真空室内真空度要到达10-3Pa以下，以满足（）条件
A、气体分子平均自由程小于蒸发距离.
B、气体分子平均自由程远大于蒸发距离
C、气体分子平均自由程等于蒸发距离。
D、气体分子平均自由程的平方大于蒸发距离。
