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单项选择题
化工化学水装置低硅水来水压力要求控制在()MPa。
A.0.1~0.3
B.0.4~0.6
C.0.7~0.9
D.1.0~1.2 -
单项选择题
化工化学水装置低硅水来水CODMn控制指标≤()mg/L。
A.1
B.2
C.3
D.4 -
单项选择题
化工化学水装置原水低硅水中含量较高的阴离子有四种,分别为()。
A.HCO3-、CL-、SO42-、HSiO3-
B.HCO3-、CL-、SO42-、CO32-
C.HCO3-、CO32-、CL-、NO3-
D.HCO3-、CO32-、SO42-、HSiO3-
