问答题
APCVD、LPCVD、PECVD和HDPCVD中文名称分别是？
常压化学气相淀积、低压化学气相淀积、等离子增强化学气相淀积和高密度等离子体化学气相淀积
问答题 离子注入后为什么要退火？
问答题 什么是沟道效应？抑制方法？
问答题 什么是扩散工艺？
