多项选择题 在半导体工艺中，淀积的薄膜层应满足的参数包含有（）。

单项选择题 为了防止抽气设备对离子注入系统的油污染，可在靶室前增加一个（）或采用无油泵。

单项选择题 离子源的基本结构是由产生高密度等离子体的（）和引出部分组成。