问答题
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶?
负光刻胶
问答题 什么是负性光刻?正性光刻?
问答题 根据成像结果的不同,光刻胶可分为哪两种类型,其中哪种成本较低且应用较早?
问答题 显影时,正胶和负胶的哪个区发生溶解?而哪个区则不会溶解。