多项选择题
常用的多晶硅薄膜的制备方法有（）。
A.非晶硅晶化制备B.将多晶硅片切薄C.利用化学气相沉积直接制备多晶硅薄膜D.对多晶硅片进行热处理
单项选择题 PECVD主要利用的是（）区域。
单项选择题 PECVD所使用的主要原料是（）。
单项选择题 α-Si指（）。
