单项选择题
刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被（）覆盖及保护的部分，以化学作用或是物理作用的方式加以去除，以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的。
A.二氧化硅 B.氮化硅 C.光刻胶 D.去离子水
多项选择题 在半导体制造中，熔断丝可以应用在（）。
多项选择题 铜与铝相比较，其性质有（）。
多项选择题 属于铝的性质有（）。
