多项选择题
属于铝的性质有()。
A.电阻低 B.抗电迁移特性好 C.对硅氧化物有很好的黏合性 D.有很高的纯度 E.易于光刻
单项选择题 下列材料中电阻率最低的是()。
多项选择题 在半导体工艺中,与氮化硅比较,二氧化硅更适合应用在()。
多项选择题 在半导体工艺中,如果淀积的薄膜不是连续的,存在一些空隙,则()。