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半导体材料

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问答题

计算题

T=300K,n型硅衬底杂质浓度为ND=1016cm-3,计算肖特基势垒高度ΦB0、半导体侧的接触电势差Vbi、空间电荷区厚度W。

【参考答案】

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问答题 简述p沟道MOSFET的工作原理。

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