问答题
为什么使用外延生长难以得到突变结?
通常希望外延层和衬底之间界面处的掺杂浓度梯度很陡,但是由于高温下进行外延生长,衬底中的杂质会进入外延层,使得外延层和衬底......
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问答题 由外延生长的Grove模型得到外延生长速率与反应物浓度成正比,对于以SiCl4为原料的硅外延为什么随SiCl4浓度的增加会出现负的生长速率?
问答题 用Grove模型解释分别在高温区、低温区外延生长时温度与生长速度的关系。
问答题 详述影响硅外延生长速率的因素。