单项选择题
表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用（）。
A.分凝度 B.固溶度 C.分凝系数 D.扩散系数
多项选择题 （）的方法有利于减少热预算。
单项选择题 当热氧化的最初阶段，（）为限制反应速率的主要原因。
单项选择题 当二氧化硅膜很薄时，膜厚与时间（）。
