单项选择题
当热氧化的最初阶段，（）为限制反应速率的主要原因。
A.温度 B.硅-二氧化硅界面处的化学反应 C.氧的扩散速率 D.压力
单项选择题 当二氧化硅膜很薄时，膜厚与时间（）。
多项选择题 干氧氧化法具备以下一系列的优点（）。
单项选择题 干氧氧化法有一些优点，但同时它的缺点有（）。
