问答题
个投影曝光系统采用ArF光源,数值孔径为0.6,设k1=0.6,n=0.5,计算其理论分辨率和焦深。
分辨率: 焦深:
问答题 在光刻中,能够在增加分辨率的同时增加聚焦深度吗?为什么?
问答题 根据曝光方式的不同,光学光刻机可以分成几类?各有什么优缺点?
问答题 在干法刻蚀的终点检测方法中,光学放射频谱分析法最常见,简述其工作原理和优缺点。