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全部科目 > 通信电子计算机技能考试 > 集成电路制造工艺员 > 集成电路制造工艺员(三级)

多项选择题

哪种方法可以增加缺陷的积累率而降低临界注入量:()。

    A.低温注入
    B.常温注入
    C.高温注入
    D.分子注入
    E.双注入

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