欢迎来到PP题库网 PP题库官网
logo
全部科目 > 通信电子计算机技能考试 > 集成电路制造工艺员 > 集成电路制造工艺员(三级)

单项选择题

为了解决中性束对注入均匀性的影响,可在系统中设有(),使离子束偏转后再达到靶室。

    A.磁分析器
    B.正交电磁场分析器
    C.静电偏转电极
    D.束流分析仪

点击查看答案

相关考题

微信小程序免费搜题
微信扫一扫,加关注免费搜题

微信扫一扫,加关注免费搜题