相关考题
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单项选择题
（）是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技术。
A.LPCVD
B.PECVD
C.CVD
D.PVD -
单项选择题
物理气相沉积简称（）。
A.LVD
B.PED
C.CVD
D.PVD -
多项选择题
薄膜沉积的机构包括那些步骤（）。
A.形成晶核
B.晶粒成长
C.晶粒凝结
D.缝道填补
E.沉积膜成长
