单项选择题
下列关于曝光后烘烤的说法正确的是（）。
A.烘烤的目的是除去光刻胶中的水分 B.烘烤可以减轻曝光中的驻波效应 C.烘烤的温度一般在300℃左右 D.烘烤的时间越长越好
多项选择题 下列有关曝光系统的说法正确的是（）。
多项选择题 按曝光的光源分类，曝光可以分为（）。
单项选择题 在VLSI工艺中，常用的前烘方法是（）。
