多项选择题
按曝光的光源分类,曝光可以分为()。
A.光学曝光 B.离子束曝光 C.接近式曝光 D.电子束曝光 E.投影式曝光
单项选择题 在VLSI工艺中,常用的前烘方法是()。
单项选择题 涂胶以后的晶片,需要在一定的温度下进行烘烤,这一步骤称为()。
多项选择题 涂胶之前,要保证晶片的质量以及涂胶工序的顺利进行,下列操作正确的是()。