问答题
浸没式光刻机相对于传统的光刻机有何不同。
根据瑞利判据：要提高分辨率，可以通过增大数值孔径NA来实现。传统曝光设备在镜头与硅片之间的介质是空气，空气的折射率是1；......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
问答题 什么是光刻中常见的表面反射和驻波效应？如何解决？
问答题 典型的光刻工艺主要有哪几步？简述各步骤的作用。
问答题 个投影曝光系统采用ArF光源，数值孔径为0.6，设k1=0.6，n=0.5，计算其理论分辨率和焦深。
