问答题
典型的光刻工艺主要有哪几步？简述各步骤的作用。
涂胶→前烘→对准与曝光→曝光后烘烤→显影→坚膜→显影检查......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
问答题 个投影曝光系统采用ArF光源，数值孔径为0.6，设k1=0.6，n=0.5，计算其理论分辨率和焦深。
问答题 在光刻中，能够在增加分辨率的同时增加聚焦深度吗？为什么？
问答题 根据曝光方式的不同，光学光刻机可以分成几类？各有什么优缺点？
