单项选择题 表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用（）。

多项选择题 （）的方法有利于减少热预算。

单项选择题 当热氧化的最初阶段，（）为限制反应速率的主要原因。