单项选择题
硅-二氧化硅系统中含有的最主要而对器件稳定性影响最大的离子是()。
A.钠 B.钾 C.氢 D.硼
单项选择题 二氧化硅生长过程中,当分凝系数小于1时,会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度()。
单项选择题 表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度,习惯上常用()。
多项选择题 ()的方法有利于减少热预算。