多项选择题 涂胶之前，要保证晶片的质量以及涂胶工序的顺利进行，下列操作正确的是（）。

单项选择题 光刻工艺中，脱水烘焙的最初温度是（）。

多项选择题 在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。