多项选择题
涂胶之前，要保证晶片的质量以及涂胶工序的顺利进行，下列操作正确的是（）。
A.进行去水烘烤以保证晶片干燥 B.在晶片表面涂上增粘剂以保证晶片黏附性好 C.刚刚处理好的晶片应立即涂胶 D.贮存的晶片在涂胶前必须再次清洗及干燥 E.也可以直接使用贮存的晶片
单项选择题 光刻工艺中，脱水烘焙的最初温度是（）。
多项选择题 在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。
单项选择题 在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。
