多项选择题
扩散工艺在现在集成电路工艺中仍然是是一项重要的集成电路工艺,现在主要被用来制作()。
A.埋层 B.外延 C.PN结 D.扩散电阻 E.隔离区
多项选择题 扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散,改变了晶片(),所以晶片才能被人们所使用。
多项选择题 二氧化硅薄膜厚度的测量方法有()。
多项选择题 二氧化硅膜的质量要求有()。