多项选择题
解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。
A.加强工艺操作 B.加强人体和环境卫生 C.使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备 D.采用HCl氧化工艺 E.硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹
多项选择题 二氧化硅层中的钠离子可能来源于（）。
单项选择题 钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是（）杂质。
单项选择题 硅-二氧化硅系统中含有的最主要而对器件稳定性影响最大的离子是（）。
