问答题
解释图中现象的原因和叙述流程
1)原因:正胶的曝光区和负胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解,而正胶的非曝光区和负胶的曝光区的光刻胶则不会在显影液中溶解......
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问答题 识别该图所示工艺,写出每个步骤名称并进行描述
问答题 金属导电层和绝缘介质层两部分组成什么系统?
问答题 干法刻蚀有哪几种?相应的内容是什么?