单项选择题
光刻工艺中，脱水烘焙的最初温度是（）。
A.150－200℃ B.200℃左右 C.250℃左右 D.300℃左右
多项选择题 在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。
单项选择题 在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。
单项选择题 在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，CA的含义是（）。
