问答题
什么是两步扩散工艺,其两步扩散的目的分别是什么?
实际的扩散温度一般为900-1200℃,在这个温度范围内,杂质在硅中的固溶度随温度变化不大,采用恒定表面源......(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
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问答题 假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散,从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm-2。
问答题 以P2O5为例,多晶硅中杂质扩散的方式及分布情况。
问答题 写出菲克第一定律和第二定律的表达式,并解释其含义。