问答题
分别画出单大马士革和双大马士革工艺流程图。
问答题 在铜互连中,为什么要用铜扩散阻挡层?阻挡层分成哪几种,分别起什么作用?
问答题 从寄生电阻和电容、电迁移两方面说明后道工艺中(Back-End-Of-Line,BEOL)采用铜(Cu)互连和低介电常数(low-k)材料的必要性。
问答题 画出侧墙转移工艺和self-aligned double patterning(SADP)的工艺流程图。