问答题 简述在热氧化过程中杂质再分布的四种可能情况。

问答题 说明影响氧化速率的因素。

问答题 简述常规热氧化办法制备SiO2介质薄膜的动力学过程，并说明在什么情况下氧化过程由反应控制或扩散控制。