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全部科目 > 通信电子计算机技能考试 > 集成电路制造工艺员 > 集成电路制造工艺员(三级)

单项选择题

对于浓度覆盖很宽的杂质原子,可以采用()方法引入到硅片中。

    A.离子注入
    B.溅射
    C.淀积
    D.扩散

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