多项选择题
解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。
A.加强工艺操作
B.加强人体和环境卫生
C.使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备
D.采用HCl氧化工艺
E.硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹
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多项选择题
二氧化硅层中的钠离子可能来源于（）。
A.玻璃器皿
B.高温器材
C.人体沾污
D.化学试剂
E.去离子水 -
单项选择题
钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是（）杂质。
A.替位式
B.间隙式
C.施主
D.可能是替位式也可能是间隙式 -
单项选择题
硅-二氧化硅系统中含有的最主要而对器件稳定性影响最大的离子是（）。
A.钠
B.钾
C.氢
D.硼
